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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
沉浸式石印流体 CN200510054221气体产品与化学公司美国宾夕法尼亚州　
微影参数反馈系统及控制方法 CN200410002713茂德科技股份有限公司台湾省新竹科学工业园　
处理具有倾斜特征的掩模的系统与方法 CN200410057194台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹市　
光学元件，包括该光学元件的光刻装置以及设备制造方法 CN200510051841ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻设备、器件制造方法、以及由此制造的器件 CN200510056552ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
含有反应性颗粒的可光固化组合物 CN03809345亨斯迈先进材料(瑞士)有限公司瑞士巴塞尔　
可辐射固化树脂组合物及利用该组合物的快速成型方法 CN03810052DSM IP财产有限公司荷兰海尔伦　
包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物 CN03808168AZ电子材料日本株式会社日本东京　
使用具有聚氧乙烯片段的粘合剂树脂的施压时可显影的红外敏感的印刷板 CN03809491柯达保丽光印艺有限责任公司美国康涅狄格　
特别用于极远紫外(EUV)光刻术中的发光系统 CN03809609卡尔蔡司SMT股份公司德国上科亨　
光致抗蚀剂剥离方法 CN03809298东京应化工业株式会社日本神奈川县　
蚀刻系统及其纯水添加装置 CN200420043389鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
蚀刻掩模 CN200410058223先锋株式会社日本东京　
光栅偏振掩模板及其在投影光刻系统中的应用 CN200510011332中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
掩模基板的平整度模拟系统 CN200510056072株式会社东芝日本东京都　
光刻胶层中减小图案尺寸的方法 CN200410011595东京应化工业株式会社日本神奈川县　
光刻胶层中减小图案尺寸的方法 CN200410011596东京应化工业株式会社日本神奈川县　
光刻胶层中减小图案尺寸的方法 CN200410011597东京应化工业株式会社日本神奈川县　
有机抗反射涂覆组合物及用其形成光阻图案的方法 CN200410095699海力士半导体有限公司韩国京畿道　
高尔夫球杆头表面蚀刻方法 CN200410003114楠盛股份有限公司台湾省高雄市　
图形描绘装置 CN200510004307大日本网目版制造株式会社日本京都府　
一种双面光刻机底面套刻对准方法 CN200510011329中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
七自由度定位机构 CN200510024017上海微电子装备有限公司201203上海市浦东新区张东路1525号　
使用相移和辅助微细结构使半导体层形成图案 CN03811360英特尔公司美国加利福尼亚州　
使用全相位和修剪掩膜的临界尺寸控制 CN03804271数字技术股份有限公司美国加利福尼亚州　
制造带有立体表面结构化的单元的方法以及该方法的应用 CN03810142尤纳克西斯巴尔策斯公司列支敦士登巴尔策斯　
纳米压印光刻胶 CN03811209科莱恩有限公司德国美茵河畔法兰克福　
光掩模及其制备方法 CN03802666杜邦光掩公司美国得克萨斯州　
聚合物和包含聚合物的光致抗蚀剂组合物 CN200410104834罗姆和哈斯电子材料有限责任公司美国马萨诸塞　
感光性树脂组合物,使用该组合物的感光性元件、保护层图案的制造法及印刷电路板的制造法 CN200510009055日立化成工业株式会社日本东京都　
化学放大型正光刻胶组合物 CN200510004738住友化学株式会社日本国东京都　
光刻过程中晶片热形变的优化校正 CN200410102095ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光方法 CN200510003858株式会社东芝日本东京都　
图形绘图装置、信息记录媒体的制造方法及母盘制造方法 CN200510004172TDK股份有限公司日本东京　
高数值孔径光刻成像偏振控制装置 CN200510011240中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
抗蚀剂残渣去除液组合物及半导体电路元件的制造方法 CN200410100602关东化学株式会社;株式会社东芝日本东京都　
形成辐射图案的工具以及形成辐射图案的工具的方法 CN03807920微米技术有限公司美国爱达荷州　
曝光掩模图形的形成方法,曝光掩模图形,以及半导体器件的制作方法 CN03807763索尼株式会社日本东京都　
一种用于硬掩膜层的含氧化硅基团的抗反射组合物 CN03807642国际商业机器公司美国纽约州　
减少多孔介电薄膜清洗期间损伤的处理方法 CN03808146东京毅力科创株式会社日本东京都　
正型感光性树脂组合物及图案形成方法 CN03808439日产化学工业株式会社日本东京　
成像方法 CN03808418皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
光刻术的方法,装置和计算机程序产品 CN03809147奥博杜卡特股份公司瑞典马尔默　
嵌入式衰减相移光掩模坯料 CN03808171国际商业机器公司美国纽约　
透明喷墨打印胶片 CN200420028102苏州工业园区斯达打印材料有限公司215124 江苏省苏州市东环路南吴东路郭巷民营开发区　
具有双嵌附层的减光型相移光罩 CN200420066841台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
掩模和使用该掩模制造液晶显示器件的方法 CN200410102780LG.菲利浦LCD株式会社韩国汉城　
曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 CN200410103651LG.菲利浦LCD株式会社韩国汉城　
掩模 CN200410104806罗姆和哈斯电子材料有限责任公司美国马萨诸塞　
激光掩模以及利用其结晶的方法 CN200410101579LG.菲利浦LCD株式会社韩国汉城　
激光掩模以及使用其的结晶方法 CN200410103506LG.菲利浦LCD株式会社韩国汉城　
表面保护膜及使用该膜的表面保护材料 CN200410101198木本股份有限公司日本国东京都　
平版印刷版前体以及使用其的平版印刷方法 CN200510003677富士胶片株式会社日本神奈川县　
水溶性材料、化学放大型抗蚀剂及使用它们的图形形成方法 CN200410081724松下电器产业株式会社日本大阪府　
交联聚合物、有机抗反射涂层组合物及形成光刻胶图案的方法 CN200410104922海力士半导体有限公司韩国京畿道　
抗蚀剂图案制造工艺及其增厚材料和半导体器件制造工艺 CN200410092179富士通株式会社日本神奈川　
含有包括氟磺酰胺基团的聚合物的正型光刻胶组合物及其使用方法 CN200510003601国际商业机器公司美国纽约　
正型光致抗蚀剂剥离液组合物 CN200510003846关东化学株式会社日本东京　
光刻装置和器件制造方法 CN200410011464ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
使用电子束的图形曝光方法 CN98106176日本电气株式会社日本东京　
光敏性记录材料的制备方法 CN98106936巴斯福印刷系统有限公司联邦德国穆恩斯特　
抗蚀剂剥离液控制装置 CN98108312株式会社平间理化研究所、长濑产业株式会社日本神奈川　
抗蚀显影方法 CN98108925西门子公司联邦德国慕尼黑　
光敏树脂组合物和其光敏性的应用 CN98109690日立化成工业株式会社日本东京　
感光性化合物，感光树脂组合物，以及使用所述化合物或组合物成像的方法 CN98109835东洋合成工业株式会社日本千叶县　
彩色显象管制造用曝光装置 CN98109863东芝株式会社日本神奈川　
一种液体光致抗蚀剂 CN98111154朱刘(214035)江苏省无锡市蓉湖新村１２－５０２　
可固化可光致成像的组合物 CN98115921莫顿国际股份有限公司美国伊利诺斯州　
改进的深紫外线光刻技术 CN98116275西门子公司联邦德国慕尼黑　
用于短波长光的负型光致抗蚀剂组合物及其形成图像的方法 CN98117484日本电气株式会社日本东京都　
固体水溶感光柔性版 CN98117822张京平(100088)北京市海淀区黄亭子小区５号楼１层６号　
酸性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺 CN98117966清华大学(100084)北京市海淀区清华园　
碱性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺 CN98117969清华大学(100084)北京市海淀区清华园　
可交联的正色性光致成像涂料 CN98118329莫顿国际股份有限公司美国伊利诺斯州　
一种干膜光刻胶 CN98119381可隆株式会社韩国京畿道　
化学增强的光刻胶 CN98120186日本电气株式会社日本国东京都　
感光纸用荧光打印头 CN98120536诺日士钢机株式会社日本和歌山县　
光敏组合物和图像成形方法 CN98120572东洋合成工业株式会社; 昭和电工株式会社日本千叶县　
感光纸用荧光彩色印刷头 CN98120683诺日士钢机株式会社日本和歌山县　
图像处理装置及方法 CN98122659三星电子株式会社韩国京畿道　
可光成象组合物 CN98123045日合－莫顿株式会社日本东京　
感光树脂组合物及使用了该组合物的感光部件 CN98123049日合－莫顿株式会社日本东京　
有改善的粘合性和加工时间的可光成像组合物 CN98123052日合－莫顿株式会社日本东京　
有改善的柔性、粘合性和剥膜性的可光成像组合物 CN98123053日合－莫顿株式会社日本东京　
含可光聚合氨基甲酸酯低聚物和二苯甲酸酯增塑剂的可光成像组合物 CN98123054日合－莫顿株式会社日本东京　
含可光聚合氨基甲酸酯低聚物和低玻璃化温度粘合剂的可光成像组合物 CN98123055日合－莫顿株式会社日本东京　
用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜 CN98123405东京＊＊化工业株式会社日本神奈川县　
离轴照明掩模板 CN98124037中国科学院光电技术研究所(610209)四川省成都市双流３５０信箱　
激光双光束全息制版仪 CN98226294朱家麟(210003)江苏省南京市新模范马路３４号１－１１０室　
光刻机相位光栅离轴照明光学系统 CN98229439中国科学院光电技术研究所(610209)四川省成都市双流３５０信箱　
光刻机环形光栅离轴照明光学系统 CN98229440中国科学院光电技术研究所(610209)四川省成都市双流３５０信箱　
亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置 CN98229441中国科学院光电技术研究所(610209)四川省成都市双流３５０信箱　
亚微米光刻机的调焦装置 CN98229444中国科学院光电技术研究所(610209)四川省成都市双流３５０信箱　
分辨力自增掩模板 CN98229445中国科学院光电技术研究所(610209)四川省成都市双流３５０信箱　
彩色显示管或彩色显像管曝光设备上的滤光片活动装置 CN98233070彩虹彩色显像管总厂(712021)陕西省咸阳市彩虹路１号　
双面ＰＳ版感光层涂布装置 CN98250077北京市印刷技术研究所(100010)北京市东城区育群胡同甲１８号　
有孔曲面电极及其加工方法 CN98800465休斯电子公司美国加利福尼亚　
光敏组合物和图案形成方法 CN98800568东洋合成工业株式会社日本千叶　
用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物及用于该组合物的化合物 CN98800696克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨茹索茨大街61号　
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