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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
强紫外激光防伪技术 CN95100889云南大学650091云南省昆明市翠湖北路52号　
相移掩模及其制造方法 CN95101040现代电子产业株式会社韩国京畿道利川郡　
光掩膜及其制造方法 CN95101151三星电子株式会社韩国京畿道　
制造全息彩虹卷材纸的方法 CN95101282周雷(100088)北京市海淀区红联北村８号楼１２层４号　
半色调式相移掩模及其制造方法 CN95101326现代电子产业株式会社韩国京畿道利川郡　
曝光掩模 CN95102281现代电子产业株式会社韩国京畿道利川郡　
制造光掩模的方法 CN95102950现代电子产业株式会社韩国京畿道　
曝光方法及其装置 CN95103125松下电器产业株式会社日本大阪府门真市　
移相掩模及其制造方法 CN95103300现代电子产业株式会社韩国京畿道　
移相掩模的制作方法 CN95104070现代电子产业株式会社韩国京畿道　
掩膜版 CN95104077现代电子产业株式会社韩国京畿道　
聚酯预涂感光版及其制造方法 CN95104294李三保100871北京市北京大学承泽园101楼201室　
测量曝光装置分辨率用的光掩模 CN95104509现代电子产业株式会社韩国京畿道　
一种掩模原版及用其测量挡板设定精度的方法 CN95104594现代电子产业株式会社韩国京畿道　
掩模原版和利用掩模原版测量掩模原版旋转误差的方法 CN95104595现代电子产业株式会社韩国京畿道　
利用相移掩模技术的光学制版方法 CN95104762美商超微半导体股份有限公司美国加利福尼亚州　
制造网板印刷模板的方法和设备 CN95104778库夫施泰因模板技术股份公司奥地利库夫施泰因　
一种印字照片的拍摄方法 CN95106264孙钰顺061000河北省沧州市风化店乡吉庆摄影部　
紫外传感膜及其制法和用途 CN95106761中国科学院化学研究所100080北京市海淀区中关村北1街2号　
正性光刻胶 CN95107005希巴-盖吉股份公司瑞士巴塞尔　
为微型机械装置提供牺牲分隔层的方法 CN95107256德克萨斯仪器股份有限公司美国德克萨斯州　
用于光敏抗蚀剂层的显影剂 CN95107303赫彻斯特股份公司联邦德国法兰克福　
光掩模及其制造方法 CN95107777株式会社日立制作所日本东京　
相移掩模 CN95108595现代电子产业株式会社韩国京畿道　
蚀刻规版直接蚀刻工艺 CN95109260唐克强437600湖北省通山县城关新城路14号　
半导体器件的图形对准标记 CN95109443现代电子产业株式会社韩国京畿道　
形成光致抗蚀图形的方法 CN95109580现代电子产业株式会社韩国京畿道　
静电印制板制版法 CN95112730刘治发210013江苏省南京市古平岗20号4幢202室　
用于制造半导体器件的光掩模的制造方法 CN95115216现代电子产业株式会社韩国京畿道　
在基片上形成聚酰亚胺图案的方法 CN95115599西方化学公司美国纽约州　
用于一步法印刷板的表面涂层 CN95115738美国3M公司美国明尼苏达州　
相移掩模 CN95115916现代电子产业株式会社韩国京畿道利川郡　
多功能光接收器 CN95116223三星航空产业株式会社韩国庆尚南道　
目的物位置和斜度控制装置 CN95116359三星航空产业株式会社韩国庆尚南道　
接触型热卡盘及其制造方法 CN95116697三星电子株式会社韩国京畿道　
处理光刻工艺中产生的废液的方法 CN95117362国际商业机器公司美国纽约　
彩色复制图像的色调管理调整方法 CN95117364株式会社亚玛托亚商会日本东京都　
彩色析像器 CN95117366株式会社亚玛托亚商会日本东京都　
曝光装置 CN95117387株式会社精工舍日本东京都　
光敏树脂组合物 CN95118316克拉瑞特金融（ＢＶＩ）有限公司日本东京　
光刻方法和用于实现此方法的光刻系统 CN95118599现代电子产业株式会社韩国京畿道　
分步曝光机的光控制装置 CN95119186现代电子产业株式会社韩国京畿道　
负型光致抗蚀剂及形成光致抗蚀图的方法 CN95119744三菱电机株式会社日本东京　
利用磁致伸缩致动器进行制版的装置及方法 CN95120373俄亥俄电子刻板公司美国俄亥俄州　
用于半导体器件中的曝光掩模 CN95120485现代电子产业株式会社韩国京畿道　
利用中介层将薄膜层制成图样的方法 CN95121173大宇电子株式会社韩国汉城　
一种快速丝网感光膜及其合成方法 CN95121810戴巍泉200071上海市海宁路696弄704号　
生产电子源基片以及带有该基片的图像形成设备的方法 CN95121855佳能株式会社日本东京都　
印刷版用感光性树脂组合物和感光性树脂版材 CN95190478东丽株式会社日本东京都　
采用离轴照明用来光刻布线图案的掩模版 CN95191552米克鲁尼蒂系统工程公司美国加利福尼亚　
光掩模坯料 CN95191612纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用 CN95192017格雷斯公司美国纽约州　
彩色印刷工艺和产品 CN95192416乳白色泽国际有限公司澳大利亚新南威尔士州　
感光性树脂组合物 CN95192672东丽株式会社日本东京都　
感光性树脂组合物及其用于涂膜、抗蚀印色、抗蚀保护膜、焊料抗蚀保护膜和印刷电路基片 CN95193040互∴化学工业株式会社日本京都府宇治市　
可干法显影的正性抗蚀剂 CN95193140西门子公司联邦德国慕尼黑　
正性光敏组合物 CN95195852赫希斯特人造丝公司美国新泽西州　
一种夹板式X光光刻对准装置 CN95201234中国科学院微电子中心100010北京市东城区大取灯胡同2号　
制版机 CN95203230陈衍庆; 陈超; 陈慧325200浙江省瑞安市万松路城关供销社后幢　
一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模 CN95203680中国科学技术大学230026安徽省合肥市金寨路96号　
刻线片预校正装置及预校正方法 CN95113128三星航空产业株式会社韩国庆尚南道　
采用极性溶剂中的离子交换树脂降低金属离子含量的方法 CN95197179科莱恩金融（ＢＶＩ）有限公司英属维尔京群岛　
低金属离子含量的对－甲酚低聚物和光敏的组合物 CN95197187科莱恩金融（ＢＶＩ）有限公司英属维尔京群岛　
一种接近式缩小光刻曝光台 CN95242587中国科学院光电技术研究所(610209)四川省双流３５０信箱　
超高道密度伺服信息极坐标光刻系统、方法及设备 CN96100312华中理工大学430074湖北省武汉市武昌珞瑜路1037号　
照明装置及使用它的曝光方法 CN96102939松下电器产业株式会社日本大阪府　
显像管制造用曝光装置 CN96103081松下电器产业株式会社日本国大阪府　
新颖聚合物及用于可光成象的组合物中 CN96103593莫顿国际股份有限公司美国伊利诺斯州　
相移掩模及其制造方法 CN96106894现代电子产业株式会社韩国京畿道利川市　
制造曝光掩模的方法 CN96107263现代电子产业株式会社韩国京畿道　
用于扩散法制图的组合物 CN96108269E.I.内穆尔杜邦公司美国特拉华州　
用于喷砂保护层的光敏树脂组合物 CN96108446松下电子工业株式会社; 东京应化工业株式会社日本大阪府　
感热式制板装置的光照射装置 CN96108930理想科学工业株式会社日本东京都　
光敏树脂组合物 CN96109482南亚塑胶工业股份有限公司台湾省台北市　
含环氧树脂的水中可光成象的组合物 CN96110910莫顿国际股份有限公司美国伊利诺斯州　
光掩模的图形结构 CN96111014现代电子产业株式会社韩国京畿道　
曝光方法和曝光设备 CN96112248日本电气株式会社日本东京都　
有机碱催化的无显影气相光刻胶 CN96114150清华大学100084北京市海淀区清华园　
投影曝光设备及其方法 CN96114465三星电子株式会社韩国京畿道　
线状丝网印刷的二维调制 CN96120199德克萨斯仪器股份有限公司美国得克萨斯州　
用于数字印刷的中心线去混叠 CN96122535德克萨斯仪器股份有限公司美国得克萨斯州　
肟磺酸酯及其作为潜在磺酸的应用 CN96122763希巴特殊化学控股公司瑞士巴塞尔　
形成微图案的光照方法和装置 CN96123105现代电子产业株式会社韩国京畿道　
感光性膏状物、等离子体显示器及其制造方法 CN96190607东丽株式会社日本东京都　
正性光致抗蚀剂的显影方法和所用的组合物 CN96191526赫希斯特人造丝公司; IBM公司美国新泽西　
深亚微米X射线光刻装置 CN96203533中国航天工业总公司; 北京师范大学100830北京市海淀区阜成路八号　
相移掩膜及其制造方法 CN96102721现代电子产业株式会社韩国汉城　
改良光阻材料及其制备方法 CN96111479中华映管股份有限公司台湾省台北市中山北路三段２２号　
用于阴极射线管的含光敏组分的改良光阻材料及其制备方法 CN96111482中华映管股份有限公司台湾省台北市中山北路三段２２号　
多束电子光刻系统的电子柱光学器件 CN96120563离子诊断公司美国加利福尼亚州　
用于将数字图像转印到感光载体上或将感光体上的图像转换为数字图像的系统 CN96180557新系统有限公司意大利戈里齐亚　
压力显像器装置 CN96191676希卡勒公司美国 俄亥俄州　
光敏化合物 CN96191853科莱恩金融（ＢＶＩ）有限公司英属维尔京群岛　
移相掩模及其制造方法 CN96191933阿尔贝克成膜株式会社、三菱电机株式会社日本秩父市　
负片型无处理印版 CN96193512美国３Ｍ公司美国明尼苏达州　
含酸可漂白的染料的石印印版组合物 CN96193639美国３Ｍ公司美国明尼苏达州　
为光刻产生的石英晶体坯片单一分割的刻蚀法 CN96194282ＣＴＳ公司美国印第安纳　
多相光引发剂，可光聚合组合物及其应用 CN96195674希巴特殊化学控股公司瑞士巴塞尔　
无水平印印版 CN96196256霍塞尔印刷工业有限公司英国利兹　
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