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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
光掩模管理方法及其条形码辨识装置 CN200410092208力晶半导体股份有限公司台湾省新竹市　
薄膜蚀刻方法以及使用该方法制造液晶显示器件的方法 CN200510080123LG.菲利浦LCD株式会社韩国首尔　
光刻装置和器件制造方法 CN200510114138ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
使用H2O电浆同时移除光阻和释放电荷的方法 CN200510079870台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
感光性树脂组合物、使用该组合物的感光层及感光性树脂印刷用原版 CN200480009318东洋纺织株式会社日本大阪　
用于光敏树脂组合物的基底附着力促进剂以及包含该促进剂的光敏树脂组合物 CN200480009527AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
用于多透射率光掩模结构的镶嵌的方法和所得结构 CN200410068071中芯国际集成电路制造(上海)有限公司201203上海市浦东新区张江路18号　
半色调掩模、用于制造它的方法及使用它的平板显示器 CN200510115641LG麦可龙电子公司韩国庆尚北道　
一种带艺术图案的眼镜配件及其表面处理的工艺方法 CN200510100225深圳市龙岗区龙岗南约荣典金属制品厂518116广东省深圳市龙岗区南约村烟墩巷6号　
基板处理装置及基板处理方法 CN200510120440大日本网目版制造株式会社日本京都府　
抗蚀剂组合物及成形方法 CN200510119432国际商业机器公司美国纽约　
电子束曝光过程实时显示系统 CN200410009781中国科学院电工研究所100080北京市海淀区中关村北二条6号　
光刻装置和器件制造方法 CN200510120144ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
驱动装置及曝光装置 CN200510109154株式会社尼康日本东京都　
用于印刷构图抗蚀剂层的组合物和方法 CN200480010035皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
光敏树脂组合物 CN200480007620AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
用于形成微型图案的模具的树脂组合物及由其制备有机模具的方法 CN200480010034米纽塔技术株式会社韩国首尔　
多孔质下层膜和用于形成多孔质下层膜的形成下层膜的组合物 CN200480010255日产化学工业株式会社日本东京都　
屏蔽装置及集成电路制造方法 CN200480010271因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
用于照明系统的光学元件 CN200480010303卡尔·蔡司SMT股份公司德国上科亨　
一种低成本简易制作光刻掩膜的方法 CN200510019949武汉大学430072湖北省武汉市武昌珞珈山　
对掩模除垢的方法 CN200510123311三星SDI株式会社韩国京畿道　
掩模组件以及使用该掩模组件的掩模框组件 CN200510123318三星SDI株式会社韩国京畿道　
加温闪光两用纳米压印装置 CN200510086826中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
用于纳米印刷光刻技术的气动方法和装置 CN200510124657国际商业机器公司美国纽约　
制造光电电路板的方法 CN200410092802长兴化学工业股份有限公司中国台湾　
用于湿浸式光刻的方法和设备 CN200510079653国际商业机器公司美国纽约阿芒克　
自动聚焦系统、自动聚焦方法及使用该系统的曝光设备 CN200510125335三星电子株式会社韩国京畿道　
湿浸式光刻系统中用于清洗半导体衬底的方法和设备 CN200510083062国际商业机器公司美国纽约阿芒克　
从基片上除去残留物的组合物及其方法 CN200510089619气体产品与化学公司美国宾夕法尼亚州　
光刻工艺、压模、该压模的使用以及光学数据存储介质 CN200480010708皇家飞利浦电子股份有限公司荷兰艾恩德霍芬　
抗蚀剂组合物以及用于除去抗蚀剂的有机溶剂 CN200480010756AZ电子材料(日本)株式会社日本国东京都　
纳米压印光刻机 CN200420118110中国科学院微电子研究所100029北京市朝阳区北土城西路3号　
用于沉积的掩模和制造该掩模的方法 CN200510123341三星SDI株式会社韩国京畿道　
大型防护胶膜组件 CN200510126742信越化学工业株式会社日本东京都　
固化性树脂组合物、其固化物以及印刷电路板 CN200410095440太阳油墨制造株式会社日本东京　
氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用 CN200410091156北京科华微电子材料有限公司;北京化学试剂研究所101113北京市通州区工业开发区广通街18号　
用于PDP电极的正型光敏糊组合物，由其制备的PDP电极以及包含该PDP电极的PDP CN200510116580三星SDI株式会社韩国京畿道　
图形化膜层与障壁的形成方法 CN200410091389中华映管股份有限公司台湾省台北市中山北路三段二十二号　
使用高阶离轴对准信号确定对准位置的方法 CN200510030577上海微电子装备有限公司201203上海市张江高科技园区张东路1525号　
浸润式微影方法和仪器 CN200510075334台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号　
一种多路显影液控制系统 CN200410084516上海华虹NEC电子有限公司201206上海市浦东川桥路1188号　
等离子室系统及使用该系统灰化光刻胶图案的方法 CN200510080138PSK有限公司韩国京畿道　
用于高孔径LCD有机绝缘层的负性抗蚀组合物 CN200480011693韩商.ADMS技术股份有限公司韩国忠南燕岐郡　
投影曝光装置、位置对准装置以及位置对准方法 CN03123736株式会社阿迪泰克工程日本东京　
抗反射涂层组合物 CN02119355希普利公司美国马萨诸塞州　
投影光学系统、具备该系统的曝光装置以及曝光方法 CN03123165尼康株式会社日本东京都　
在曝光对位制造工艺中去除彩色光阻的方法 CN03123482统宝光电股份有限公司台湾省新竹科学工业区苗栗县　
自增感型超支化聚酰亚胺光敏材料及其制备方法 CN02137747上海交通大学200030上海市华山路1954号　
具有一个VCSEL光源阵列的用于印版的制图像装置 CN02107176海德堡印刷机械股份公司联邦德国海德堡　
一种制造亚光刻尺寸通路的方法 CN03122426惠普公司美国加利福尼亚州　
平版印刷版原版 CN02146060富士胶片株式会社日本神奈川县　
一种蚀刻方法 CN03104493友达光电股份有限公司台湾省新竹市　
阵列式集成电路扫描光刻用的工作台运动控制方法及系统 CN02116681清华大学100084北京市100084－82信箱　
曝光机的近似平行光控制增益结构 CN02205980北京大祥机械国际有限公司100015北京市朝阳区机场路草场地166号　
正型光敏树脂组合物和使用它的半导体装置 CN02119045住友电木株式会社日本东京　
基板处理装置 CN02121836住友精密工业株式会社日本国兵库县　
用于光致抗蚀剂溶解液的消泡剂组合物 CN02118847三乃可株式会社;旭化成株式会社日本京都府　
曝光方法及曝光装置 CN03138108三荣技研股份有限公司日本国兵库县　
光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法 CN02128219东京应化工业株式会社日本神奈川县　
能束曝光方法和曝光装置 CN03136669株式会社东芝日本东京都　
曝光装置的照度不匀度的测定方法和修正方法 CN02121807株式会社东芝日本东京都　
光刻设备、装置制造方法和计算机程序 CN200410032532ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置，器件制造、性能测量及校准方法和计算机程序 CN03140753ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
平版印刷版前体 CN02127216富士胶片株式会社日本神奈川县　
掩膜图案的校正方法 CN02141166联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构 CN02117420清华大学100084北京市100084－82信箱　
碱性加工液、加工液的配制方法及其装置以及加工液的供给方法及其装置 CN02130318株式会社平间理化研究所;长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社;;长濑CMS科学技术株式会社日本神奈川　
图形写入装置和图形写入方法 CN03131462大日本网目版制造株式会社日本京都府京都市　
用于改善光刻装置中线宽控制的系统和方法 CN03122237ASML美国公司美国康涅狄格　
烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂及其在光致抗蚀显影剂中的应用 CN00134217气体产品与化学公司美国宾夕法尼亚州　
用于纹理制作的装置与方法 CN00816989奥布杜卡特公司瑞典马尔默　
包括氟化铵的光刻胶去除剂组合物 CN00819669东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市西区　
光刻成像滤波装置 CN01108758中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
可调式偏振光反应光阻与应用该光阻微影工艺 CN01130268旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
减小图案间隙或开口尺寸的方法 CN01131388旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
交替式相移光罩及其解除光罩以及接触洞的制造方法 CN01134366台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
有机电激发光的图素定义层的显影装置 CN01134912铼宝科技股份有限公司台湾省新竹县　
光罩组合及接触洞的制造方法 CN01136345台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
新版光罩的验证方法 CN01136691旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
反射镜面上的倾斜凸块结构及其制造方法 CN01137577奇美电子股份有限公司台湾省台南县　
曝光系统及其应用于彩色滤光片的曝光方法 CN01137774奇美电子股份有限公司台湾省台南县　
微管道的制作方法 CN01138148中国科学技术大学230026安徽省合肥市金寨路96号　
改进型曝光台主透镜 CN01139110上海永新彩色显像管股份有限公司200237上海市朱梅路201号　
形成光阻图案的方法 CN01140031旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
改善曝光机台的分辨率极限的方法 CN01141571旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
转移图形的方法 CN01142997旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行路16号　
基板曝光装置及方法 CN01143414威盛电子股份有限公司台湾省台北县新店市中正路533号8楼　
光致抗蚀剂组合物 CN01144640希普利公司美国马萨诸塞州　
光阻剂组合物 CN01144743希普利公司美国马诸塞州　
检测光罩机台修正精确度的方法 CN01144757南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
光源产生装置及接触孔洞的曝光方法 CN01145086南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
倒锥形抗蚀图案的形成方法 CN01805988克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
将图案转移到一个物体上的装置 CN01806518奥博杜卡特股份公司瑞典马尔默　
感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性元件、保护层图案的制造法及印刷电路板的制造法 CN01806651日立化成工业株式会社日本东京都　
用于从微电路基材除去含钠物质的方法和组合物 CN01806705马林克罗特·贝克公司美国密苏里州　
用于物体均匀加热的设备 CN01806997奥博杜卡特股份公司瑞典马尔默　
光固化性·热固化性树脂组合物、其感光性干薄膜及使用其的图型形成方法 CN01807477学校法人神奈川大学;太阳油墨制造株式会社日本神奈川县　
具有提高的剥离强度的自含成像组件 CN01807609希卡勒公司美国俄亥俄　
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