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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
光刻装置和器件的制造方法 CN03143858ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光装置及载物台装置、以及器件制造方法 CN03141315株式会社尼康日本东京　
X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法 CN03141108中国科学院微电子中心100029北京市德胜门外祁家豁子　
一种电子束缩小投影曝光成像系统 CN03137518中国科学院电工研究所100080北京市中关村二条6号　
光刻装置和器件制造方法 CN03133004ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
载台装置及曝光装置 CN03140734尼康株式会社日本东京都　
光刻装置及器件制造方法 CN03133021ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
平板印刷板原版 CN03140913富士胶片株式会社日本神奈川县　
光刻设备和器件制造方法 CN03147209ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
用于蒸发的掩模，包括该掩模的掩模框架组件，及其制造方法 CN03145465三星日本电气移动显示株式会社韩国蔚山广域市　
一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置 CN03123574中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
金属掩模板 CN03123573中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
组装光学元件套件和方法，光学元件，平版印刷机和器件制造法 CN03136696ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有垂直于晶片台的光罩台的反射折射光刻系统及方法 CN03138647ASML控股股份有限公司荷兰费尔德霍芬　
光罩保护膜的卸除装置 CN03137004台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹　
液晶显示面板前段阵列制造工艺中第一道黄光暨蚀刻方法 CN03131175友达光电股份有限公司台湾省新竹市　
正型成像材料 CN02103198富士胶片株式会社日本神奈川县　
烘烤系统 CN200410032542三星电子株式会社韩国京畿道　
形成无侧叶现象的光致抗蚀剂层的方法 CN03137844旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
用于夹持印刷电路板进行曝光的夹持件 CN02108236自动化技术公司法国瓦德勒伊　
激光光绘机自动上片装置 CN02225377深圳市东方宇之光电子科技有限公司518000广东省深圳市福田区车公庙天安工业区F4.8栋6B　
曝光方法、曝光装置及元件制造方法 CN03136730尼康株式会社日本东京都　
正型光敏树脂组合物 CN200410043038东丽株式会社日本东京都　
光罩、光罩制作方法及使用该光罩的图案形成方法 CN03122598松下电器产业株式会社日本大阪府　
在使用具有预数值孔径控制的照射系统的光刻装置中改善线宽控制的系统和方法 CN03122236ASML美国公司美国康涅狄格　
曝光方法及曝光装置 CN02106809尼康株式会社日本东京都　
蚀刻的方法 CN02124909联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号　
液晶显示器件的制造方法 CN03141010LG.飞利浦LCD有限公司韩国汉城　
平版印刷版用原版 CN02105689富士胶片株式会社日本神奈川县　
一种光罩盒的承载件 CN02231127旺宏电子股份有限公司台湾省新竹　
湿蚀刻装置 CN03122441统宝光电股份有限公司台湾省苗栗县　
图案描绘装置及图案描绘体的制造方法 CN02126238精工爱普生株式会社日本东京　
在表面用聚焦电子束诱导化学反应蚀刻表面材料的方法 CN03131163纳沃泰克有限公司;马里兰大学技术商品化部联邦德国罗斯多夫　
扫描曝光方法和扫描曝光装置 CN03136463三荣技研株式会社日本兵库县　
感光性导电胶、导体图形形成法和陶瓷多层构件制法 CN02141911株式会社村田制作所日本京都府　
照明装置及应用该照明装置的曝光装置和器件制造方法 CN02143157佳能株式会社日本东京　
碱液的制造方法、碱液及其应用、药液涂布装置及其应用 CN02119275株式会社东芝日本东京都　
一种设计交替相移掩模的方法 CN200310116594国际商业机器公司美国纽约州　
化学增强型正光刻胶组合物 CN02101863住友化学工业株式会社日本大阪市　
应用高能光源制造微型构造的方法 CN02105093学校法人浦项工科大学校韩国庆尚北道　
照明光学装置、曝光装置及曝光方法 CN03136537尼康株式会社日本东京都　
曝光方法及曝光装置 CN02102898尼康股份有限公司日本东京都　
用于光致抗蚀剂的剥离组合物 CN03100735三星电子株式会社韩国京畿道　
测量光罩布局修正所引起桥接的方法与装置 CN02140312联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号　
具有照度偏光控制的光罩 CN03122406旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
激光加工方法和设备 CN03136875日本电气株式会社日本东京都　
加工方法、半导体器件的制造方法、和加工装置 CN03131416株式会社东芝日本东京都　
防止抗蚀剂中图象毁坏的显影剂/漂洗液的组成 CN02104699国际商业机器公司美国纽约　
在蚀刻处理后移除聚合物的方法 CN03122495旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
一种耐水、耐溶剂重氮系丝网印刷制版感光胶 CN03116589上海中大科技发展有限公司201702上海市青浦区沪青平公路前云路121号　
防止回溅的装置与方法 CN03137832友达光电股份有限公司台湾省新竹市科学工业园区力行二路1号　
光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法 CN02142279东京应化工业株式会社日本神奈川县　
使用邻喹啉并二甲烷的平版印刷方法 CN02128222富士胶片株式会社日本神奈川县　
去除抗蚀剂材料的方法 CN02119873日东电工株式会社日本大阪府　
曝光方法、曝光装置及器件制造方法 CN03130923株式会社尼康日本东京　
微影制程 CN03126630鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号　
灰色调掩模的缺陷检查方法 CN200410033706HOYA株式会社日本东京　
基板处理方法和基板处理装置 CN03142914东京毅力科创株式会社日本东京都　
提高光刻分辨率的方法 CN02111138中国科学院上海光学精密机械研究所201800上海市800－211邮政信箱　
灰色调掩模的缺陷校正方法 CN200410033705HOYA株式会社日本东京　
基板曝光装置 CN02201313威盛电子股份有限公司台湾省台北县新店市中正路533号8楼　
基板处理装置 CN02121837住友精密工业株式会社日本国兵库县　
照明光学系统及配备该光学系统的激光器处理装置 CN02108096石川岛播磨重工业株式会社日本东京都　
抗蚀膜的形成方法及光掩膜的制造方法 CN200410032480HOYA株式会社日本东京　
图案、布线、电路板、电子源和图像形成装置的制造方法 CN02127481佳能株式会社日本东京　
光刻装置及器件制造方法 CN200410038707ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
相位误差检测图案及其应用 CN02122693联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
一种用于凹印制版印刷的无缝挂网方法 CN02100079北京北大方正集团公司;北京大学计算机科学技术研究所100085北京市海淀区上地信息产业基地5街9号　
减弱条纹地在印版上制作图像 CN02105242海德堡印刷机械股份公司联邦德国海德堡　
装置制造方法,掩模组,数据组,掩模图案化方法及程序 CN200410045113ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光方法 CN02123399株式会社东芝日本东京都　
采用湿蚀刻的电子部件的制造方法 CN02119271大日本印刷株式会社日本东京都　
蚀刻方法以及蚀刻液的定量分析方法 CN02108573三菱化学株式会社;日本化成株式会社日本东京　
投影曝光装置 CN03137290株式会社阿迪泰克工程日本东京　
用于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案的形成方法 CN03136946东京应化工业株式会社日本神奈川县　
规格确定方法、投射光学系统制造方法和调节方法、曝光设备及其制造方法以及计算机系统 CN02104628株式会社尼康日本东京　
装置制造方法 CN200410045150ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
投影光学系统,具有该投影光学系统的投影曝光装置以及投影曝光方法 CN02106801尼康株式会社日本东京都　
具有干涉仪系统的曝光装置 CN02105045佳能株式会社日本东京　
光刻胶组合物 CN02116115希普雷公司美国马萨诸塞　
数码打样中的色彩管理方法 CN03116708上海龙樱彩色制版有限公司201205上海市浦东新区川周公路7077号　
光罩、光罩的制作方法及使用该光罩的图案形成方法 CN03122599松下电器产业株式会社日本大阪府　
光学邻近效应修正的方法 CN02127825联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号　
电路板输送制程挡水装置 CN02207660扬博科技股份有限公司中国台湾　
影象形成材料和铵化合物 CN02127001富士胶片株式会社日本神奈川县　
微隅角棱镜阵列、制造它的方法以及反射型显示装置 CN02124372夏普株式会社日本大阪府　
Z偏移和不垂直照射产生的掩膜物体的Y移位中的位置校正 CN200410032185ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有offner型宏光具的印版制图像装置 CN02108473海德堡印刷机械股份公司联邦德国海德堡　
图形写装置、图形写方法和衬底 CN03131357大日本网目版制造株式会社日本京都府京都市　
用母掩模在中间掩模上形成IC芯片的图形用的曝光方法 CN02106195株式会社东芝;大日本印刷株式会社日本东京都　
一种用于珂罗版印刷的印版 CN03250671张稷100025 北京市朝阳区东风乡苇子坑140号　
使印刷电路板表面曝光的装置 CN02121797奥托马泰克法国瓦勤德勤伊　
用于ARS系统的器件隔离工艺流程 CN02120303惠普公司美国加利福尼亚州　
平版印刷版用修版液 CN03128511富士胶片株式会社日本神奈川县　
感光性组合物和负型平版印刷版 CN02141073富士胶片株式会社日本神奈川县　
正片型感光性抗蚀剂组合物及其用途 CN02141379三井化学株式会社日本东京都　
预测曝光能量的方法 CN02140149联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
保护膜形成用材料 CN02141011东京応化工业株式会社日本川崎市　
图案形成方法及装置、电敏感元件及滤色器的制造方法 CN02142933精工爱普生株式会社日本东京　
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