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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
单步骤中结合临界尺寸及披覆之测量方法 CN02813203因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
焦点监测用光掩模、监测方法、监测装置及其制造方法 CN02123288三菱电机株式会社日本东京都　
图案转移的方法 CN02124620联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号　
光掩模的制造方法 CN02123090保谷株式会社日本东京　
控制接触窗微距的蚀刻方法 CN02123083旺宏电子股份有限公司台湾省新竹　
有机电激发光显示面板显影设备及方法 CN02123218铼宝科技股份有限公司台湾省新竹县　
形成图案的工序及采用该工序制造液晶显示设备的方法 CN02123216NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
主动式有机电致发光显示器的制作方法 CN02122734友达光电股份有限公司台湾省新竹市　
相移光刻掩模的曝光控制 CN02811544数字技术公司美国加利福尼亚州　
用于相移光刻掩模的光学接近校正 CN02811550数字技术公司美国加利福尼亚州　
相移光刻掩模的设计和布局 CN02811551数字技术公司美国加利福尼亚州　
光刻蚀法中使用的含噻吩的光酸生成剂 CN02812555国际商业机器公司美国纽约州　
厚抗蚀剂图案的形成方法 CN02811618克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
含有一种潜酸的聚合物材料 CN02811386西巴特殊化学品控股有限公司瑞士巴塞尔　
钟摆式数字曝光法 CN02120823仇伟军;路友谊300203 天津市河西区南京路25号4-101　
半色调型相移掩膜坯料、半色调型相移掩膜及其制造方法 CN02823609HOYA株式会社日本东京都　
使用铬膜辅助图形的无铬膜相转移光罩 CN02122045联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路3号　
多阶段烘烤光阻以改善光刻品质的方法 CN02121962旺宏电子股份有限公司中国台湾　
光敏性树脂组合物及用该组合物的光敏性干膜抗蚀剂、光敏性射线遮挡膜 CN02811001钟渊化学工业株式会社日本大阪府大阪市　
显影液供给装置 CN02120200三菱化学工程株式会社日本东京都　
微影制程的焦距检测方法 CN02120604矽统科技股份有限公司台湾省新竹科学园区　
用于剥离光刻胶的组合物 CN02120076株式会社德成韩国京畿道　
改善易碎基片涂胶工艺的方法 CN02119899中国科学院微电子中心100029北京市德胜门外祁家豁子　
降低易碎基片接触曝光碎片率的方法 CN02120101中国科学院微电子中心100029北京市德胜门外祁家豁子　
制造器件的光刻法 CN02802361皇家菲利浦电子有限公司荷兰艾恩德霍芬　
防止静电破坏的光罩 CN02119722台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
厚膜型光致抗蚀剂及其使用方法 CN02811695希普雷公司美国马萨诸塞　
光可成像组合物 CN02801789希普利公司美国马萨诸塞州　
一种制造微机电系统(MEMS)器件结构的方法 CN02828414铱显示器公司美国加利福尼亚州　
相移掩膜的制作方法 CN02119016旺宏电子股份有限公司中国台湾　
曝光装置的照度不匀度的测定方法和修正方法 CN200410101124株式会社东芝日本东京都　
用于深紫外光刻术的光刻胶组合物 CN02809702科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物 CN02809987国际商业机器公司美国纽约　
用于制造衰减相移光掩模坯的离子束沉积方法 CN02812104纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
用于制造二元光掩模坯料的离子束沉积方法 CN02812375纳幕尔杜邦公司美国特拉华州　
用于制造多层的衰减相移光掩模坯件的离子束淀积工艺 CN02808376纳幕尔杜邦公司美国特拉华州威尔明顿　
树脂组合物、树脂组合物制备方法及树脂膜的形成方法 CN02808732索尼化学株式会社日本东京都　
形成微影制程的相偏移光罩的方法 CN02105559林心迪中国台湾　
远紫外线可透过的界面结构 CN02801246皇家菲利浦电子有限公司荷兰艾恩德霍芬　
形成光刻用防反射膜的组合物 CN02807941日产化学工业株式会社日本东京都　
一种修正掩膜布局图的方法 CN02105906联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
消除微影制程中线末端变短效应的方法及其所使用的罩幕组 CN02106272台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
多光罩平放器装置及其改善叠加微影的方法 CN02106134台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
一种数字激光成像的柔性版 CN02111242信华精密制版（上海）有限公司201615上海市松江区九亭镇黄泥浜村　
可装设数块光罩的光罩支架及微影曝光系统 CN02106111台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
防止液滴残留的液体喷洒方法及其喷嘴装置 CN02108759华邦电子股份有限公司台湾省新竹　
一种具有使印品产生直观防伪效果的数字激光柔性版 CN02111191信华精密制版（上海）有限公司201615上海市松江区九亭镇黄泥浜村　
印刷电路板的制造法及用于其中的感光性树脂组合物 CN02807662日立化成工业株式会社日本东京都　
电路形成用感光性膜及印刷配线板的制造方法 CN02807440日立化成工业株式会社日本东京都　
抗蚀剂图形增厚材料、抗蚀剂图形及其形成方法以及半导体器件及其制造方法 CN02124689富士通株式会社日本神奈川　
抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法 CN02108303三星电子株式会社韩国京畿道　
灰调掩模中灰调部的缺陷修正方法 CN02108248保谷株式会社日本东京　
带有可移动透镜的光刻装置和在存储媒体中制作数字全息图的方法 CN02807622特萨斯克里伯斯有限公司德国海德堡　
采用一维触发面的刻蚀技术以及在存储介质上产生数字全息图的方法 CN02808092特萨斯克里伯斯有限公司德国海德堡　
光探针扫描集成电路用光刻系统中振动刻写方法 CN02116309清华大学100084北京市100084-82信箱　
流体喷射装置制造方法 CN02107795明基电通股份有限公司台湾省桃园县　
生产含有碳酸酯的酸敏液体组合物的方法 CN02808086科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
短波成像用溶剂和光刻胶组合物 CN02808944希普雷公司美国马萨诸塞　
抗蚀剂剥离用组合物 CN02806404长瀬化成株式会社日本大阪府　
数字式平印直接印版用版材 CN02104388张仲奎100077北京市崇文区永外革新里4号楼1门301室　
增进介电抗反射涂布层的光阻蚀刻选择比的方法 CN02106864旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区力行路16号　
制造液晶显示器的曝光掩模及利用该掩模制造液晶显示器时曝光基板的方法 CN02802928三星电子株式会社韩国京畿道　
利用多重曝光形成孤立线的方法 CN02106483南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
光刻模板 CN02806953摩托罗拉公司美国伊利诺斯　
三色调衰减相移掩模的自对准制造技术 CN02806546数字技术股份有限公司美国加利福尼亚州　
新共聚物及光致抗蚀组合物 CN02806936希普雷公司美国马萨诸塞　
去除感光性树脂与残余聚合物的方法 CN02105271旺宏电子股份有限公司台湾省新竹市　
残余聚合物去除剂及其使用方法 CN02105270旺宏电子股份有限公司台湾省新竹市　
相移波纹聚焦监视器 CN02816700先进微装置公司美国加利福尼亚州　
正型感光性树脂前体组合物以及使用它的显示装置 CN02800432东丽株式会社日本东京　
均匀涂布基片的方法 CN02808302硅谷集团公司美国加利福尼亚州　
具有高耐热性的光致抗蚀剂组合物 CN02825525三星电子株式会社韩国京畿道　
具有改进了的吸收层的远紫外线掩模 CN02807802英特尔公司美国加利福尼亚州　
均匀涂布基片的方法 CN02808303硅谷集团公司美国加利福尼亚州　
抗静电光罩的制造方法 CN02105017台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹　
负作用水性光刻胶组合物 CN02818896科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版 CN02252770上海光刻电子科技有限公司;陈开盛;粟鹏义200052 上海市定西路710弄16号鸿申大厦24E座　
改善光学微影制程解析度的方法 CN02142631联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号　
氧化羰基铁光刻掩膜版 CN02139397付增荣713100陕西省兴平市兴化集团　
生物电子CARL:使用导电层之基材连结 CN02818987因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
显影处理方法和显影液涂布装置 CN02143756东京威力科创股份有限公司日本东京都　
在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统 CN200410092383NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统 CN200410071266NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统 CN200410071264NEC液晶技术株式会社日本神奈川县　
光刻胶组合物 CN02142219住友化学工业株式会社;东友法肯株式会社日本大阪市　
转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法 CN200310124030台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹市　
光敏平版印刷版的自动处理方法及其自动处理装置 CN200310124248富士胶片株式会社日本神奈川县　
一次扫描两个普通曝光区域的曝光方法 CN200310122903上海华虹（集团）有限公司;上海集成电路研发中心有限公司200020上海市淮海中路918号18楼　
掩模盒和传送盒内的光刻掩模以及扫描盒内的掩模的方法 CN200310123553ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
最小尺寸为纳米量级图形的印刻法制备工艺 CN200310122870中国科学院上海微系统与信息技术研究所200050上海市长宁区长宁路865号　
热敏平版印刷版前体 CN200310113195富士胶片株式会社日本神奈川县　
红外线敏感的平版印刷版 CN200310113198富士胶片株式会社日本神奈川县　
放射线敏感性组合物、黑色矩阵、颜色滤光片以及彩色液晶显示装置 CN200310114716JSR株式会社日本东京都　
一种微细光束紫外光源 CN200320123288中国科学技术大学230026 安徽省合肥市金寨路96号　
具有可扩展薄片的杂质屏蔽 CN200310125192ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件制造方法 CN200310114753ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
具有残余物抑制装置的光刻装置和器件制造方法 CN200310114774ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种光刻投影装置及其器件制造方法 CN200310122074ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
一种光刻投影装置 CN200310122072ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
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