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A:人类生活需要 B:作业,运输 C:化学,冶金 D:纺织和造纸 E:固定构造 F:机械工程 G:物理 H:电学
分 类 >> G:物理 >> 图纹面的照相制版工艺，例如：印刷工艺，半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
名称 专利号 申请者 地址
形成精细抗蚀图形的方法 CN02824026东京应化工业株式会社;三星电子株式会社日本神奈川县　
光刻装置，器件制造方法和光学元件的制造方法 CN02145591ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件的制造方法 CN02145592ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻装置和器件的制造方法 CN02145590ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法 CN02823454东京应化工业株式会社日本神奈川县　
正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 CN02821757东京应化工业株式会社日本神奈川县　
正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 CN02824118东京应化工业株式会社日本神奈川县　
高折射率环氧树脂和低折射率烯类单体组成的光致聚合物体全息存储材料及其制备方法 CN02149193中国科学院理化技术研究所100101北京市朝阳区大屯路甲3号　
感光热固性树脂及含该树脂之抗焊油墨组成物 CN02154641大东树脂化学股份有限公司台湾省台中市工业区34路35号　
利用消除辅助特征来提高处理范围的方法 CN02154272ASML蒙片工具有限公司荷兰维尔德霍芬　
曝光方法 CN02153821株式会社东芝日本东京　
成像设备 CN02823560ASML 荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
抗蚀图增厚材料、抗蚀图及其形成工艺以及半导体器件及其制造工艺 CN02152770富士通株式会社日本神奈川　
恒定光源步进扫描实现大面积光刻方法及其光刻装置 CN02153269中国科学院光电技术研究所610209四川省成都市双流350信箱　
缺陷像素补偿方法 CN02823704麦克罗尼克激光系统公司瑞典泰比　
基板保持装置、曝光装置以及器件制造方法 CN02151494株式会社尼康日本东京　
感光性树脂组合物、干式薄膜和使用它的加工部件 CN02153105三井化学株式会社日本东京都　
感放射线组合物及图案形成方法及半导体装置的制造方法 CN02151388株式会社日立制作所日本东京　
光学放大率调节系统与投影曝光设备 CN02149456株式会社阿迪泰克工程日本东京　
交错式相位位移掩膜 CN02151339华邦电子股份有限公司台湾省新竹　
双层层叠物及使用它的构图方法 CN02808727捷时雅株式会社日本东京　
光投射处理设备和用它制造器件的方法及制成的器件，污染物的清洁设备和清洁方法 CN02151873ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
光刻投射设备和用它制造器件的方法及制成的器件 CN02151872ASML荷兰有限公司荷兰维尔德霍芬　
化学漂洗组合物 CN02822424三星电子株式会社韩国京畿道　
用晶体材料制造透镜 CN02828920卡尔蔡司SMT股份公司德国上科亨　
改进采用微胶囊的感光成象介质感光度响应的方法 CN02823095美国汇丰银行(塞科拉公司信托人)美国纽约　
光致抗蚀剂组合物及用该组合物形成图案的方法 CN02150451三星电子株式会社韩国京畿道　
感光性树脂组合物及其用途 CN02823716旭化成电子材料元件株式会社日本东京都　
光掩模及其制造方法 CN02149933株式会社日立制作所日本东京　
无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机 CN02824637应用材料有限公司美国加利福尼亚　
氧化铁光刻掩膜版 CN02258908付增荣713100 陕西省兴平市兴化集团　
图像形成材料 CN02809795富士胶片株式会社日本神奈川县　
检查曝光装置、补正焦点位置和制造半导体装置的方法 CN02149225株式会社东芝日本东京　
用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法 CN02822202东京应化工业株式会社日本神奈川县　
形成细微图案的方法 CN02821984东京应化工业株式会社日本神奈川县　
曝光方法和曝光装置 CN02146195株式会社东芝日本东京　
一种新型的掩模板设计制作结构 CN02261132上海华虹NEC电子有限公司201206 上海市浦东新区金桥出口加工区川桥路1188号　
剥离抗蚀剂的方法 CN02821688三菱瓦斯化学株式会社日本东京　
适用作光刻胶的可紫外线固化的粉末 CN02821802DSM IP财产有限公司荷兰海尔伦　
用于使面板表面曝光的装置 CN02146972自动化技术公司法国瓦尔德勒伊　
保护胶片及附设保护胶片的光罩的制造方法 CN02146120三井化学股份有限公司日本东京都　
感光性陶瓷组合物以及使用该组合物的多层基板的制造方法 CN02821890东丽株式会社日本东京都　
包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物 CN02821615科莱恩金融(BVI)有限公司英属维尔京群岛托尔托拉　
使用光束成型获取椭圆及圆化形状之方法 CN02821213因芬尼昂技术股份公司德国慕尼黑　
在多层印刷电路板的制造工艺中使用的标记设备 CN02146078株式会社阿迪泰克工程日本东京　
利用激光束的识别码的打印方法和装置 CN02821192东丽工程株式会社日本大阪市　
具有对准量测标记的光罩及其侦测方法 CN02146345友达光电股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路1号　
感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性薄膜及层压体 CN02823991钟渊化学工业株式会社日本大阪府大阪市　
感光性树脂积层体 CN02147383东洋纺织株式会社日本国大阪府　
用于液晶设备的正型光刻胶组合物 CN02819901东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市西区　
包括二叠氮醌硫酸酯化合物的感光树脂组合物 CN02820267东进瑟弥侃株式会社韩国仁川市西区　
用于微平版印刷中的改进的照明系统 CN02154739ASML美国公司美国康涅狄格　
具有光标尺的渐层遮光板曝光法的光罩及其侦测方法 CN02146322友达光电股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行2路1号　
设备管理系统和方法、半导体曝光设备及其管理方法、半导体器件的制造方法 CN02145784佳能株式会社日本东京　
化学放大型正性光刻胶组合物 CN02145886住友化学工业株式会社日本国大阪府　
光致抗蚀剂组合物及用其形成图案的方法 CN02145838三星电子株式会社韩国京畿道　
渐层遮光板曝光法的光罩及其侦测方法 CN02146242友达光电股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行2路1号　
曝光设备的冷却装置 CN02248601志圣科技（广州）有限公司510850广东省广州市花都区狮岭镇第二工业区利和路6号志圣科技（广州)有限公司　
曝光系统及其曝光方法 CN02145826台湾积体电路制造股份有限公司台湾省新竹　
利用截面分析确定聚焦中心 CN02824134安格盛光电科技公司美国俄勒冈州　
单面防焊曝光机 CN02259795张鸿明台湾省桃园县芦竹乡南工路56号　
一种凹球面光刻刻划机 CN02133149中国科学院长春光学精密机械与物理研究所130022吉林省长春市人民大街140号　
环状锍和氧化锍及含有它们的光致酸生成剂和光刻胶 CN02154275希普雷公司美国马萨诸塞　
形成光刻用防反射膜的组合物 CN02819915日产化学工业株式会社日本东京都　
反应显影布图方法 CN02819703横滨TLO株式会社日本神奈川县　
优化至少两个光学元件成像特性的方法以及照相平版制造法 CN02825556卡尔蔡司SMT股份有限公司德国上科亨　
光刻编程系统及其应用 CN02131352张国飙610051四川省成都市跳蹬河邮局001信箱　
定义防护环的光罩及其方法 CN02144476南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
双灯泡型曝光装置 CN02154556LG电子株式会社韩国汉城市　
灰调掩模制作方法、灰调掩模和图形转印方法 CN02143094保谷株式会社日本东京　
光学记录器及其记录方法 CN02143819株式会社液晶先端技术开发中心日本神奈川县　
化学增强的正型辐射敏感树脂组合物 CN02803208克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
感光树脂组合物 CN02803209克拉瑞特国际有限公司瑞士穆滕茨　
光敏树脂组合物和印刷电路板 CN02143218田村化研株式会社日本埼玉县　
光敏树脂组合物和印刷电路板 CN02143217田村化研株式会社日本埼玉县　
无残留物双层微影方法 CN02144050联华电子股份有限公司台湾省新竹市　
正感光性聚酰亚胺树脂组合物 CN02818490日产化学工业株式会社日本东京　
照明光学系统、曝光装置以及微元件的制造方法 CN02142427尼康株式会社日本东京都　
平版印刷版前体 CN02143112富士胶片株式会社日本神奈川县　
图案形成材料和图案形成方法 CN02802641松下电器产业株式会社日本大阪府　
用于轴外照射的光掩模及其制造方法 CN02131645三星电子株式会社韩国京畿道　
环境中耐久的、自密封的光学制品 CN02821642英法塞技术公司美国科罗拉多州　
保护膜组合物 CN02805512旭硝子株式会社日本东京　
正型感光性树脂组合物 CN02103244住友电木株式会社日本东京　
熔融二氧化硅薄膜 CN02803973美商福昌公司美国康涅狄格　
半导体封装件及其制造方法 CN02805240陶氏康宁公司美国密执安　
消除由化学收缩辅助清晰度提高的平印工艺中轮廓失真的方法 CN02101889旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行路16号　
自动回馈修正的曝光方法与系统 CN02101701南亚科技股份有限公司台湾省桃园县　
利用光学邻近效应修正多边形光罩特征图案的方法 CN02101840联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号　
通过回流从较低层除去构图层的方法 CN02100950日本电气株式会社日本东京　
抗蚀性可固化树脂组合物及其固化产品 CN02802293昭和电工株式会社日本东京都　
酸发生剂、磺酸、磺酸衍生物及辐射敏感树脂组合物 CN02160643JSR株式会社日本东京　
光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法 CN02812972东京应化工业株式会社日本神奈川县　
光扫描式超高速激光全息刻录机 CN02237374易晗;易联招100140 北京市怀柔区于家园二区甲5号楼7单元603室　
双层光刻过程 CN02123171联华电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
灰调掩模及其制造方法 CN02124776保谷株式会社日本东京　
水系保护膜剥离液管理装置及水系保护膜剥离液管理方法 CN02147039株式会社平间理化研究所;长濑产业株式会社日本神奈川　
避免定位误差的双镶嵌结构制作方法 CN02124883旺宏电子股份有限公司台湾省新竹科学工业园区　
抗蚀剂组合物 CN02812460和光纯药工业株式会社日本大阪府　
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